BEN AICHA Hicham
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  1. H. Ben aicha
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Journées internationales sur: Caracterisation d'un plasma RF : Influence des parametres du plasma sur les depots de passivation du phosphure d'indium (INP)
Université Ibn Khaldoun, 01-03 Juin, 2002
Journées internationales sur: Influence du substrat semi-isolant sur les caracteristiques electriques des transistors a effet de champ Ga As realises
Université Ibn Khaldoun, 13-16 Juillet, 2001
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Département de Biologie, Bureau N6, Faculté des Science d'Assilah, Université Ibn Khaldoun, 53000 Assilah-tanger Maroc

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